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沈陽東創(chuàng)貴金屬材料有限公司
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各種類型的濺射薄膜材料在半導(dǎo)體集成電路(VLSI)、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等方面都得到了廣泛的應(yīng)用。20世紀(jì)90年代以來，濺射靶材及濺射技術(shù)的同步發(fā)展，玫瑰金靶材廠家，極大地滿足了各種新型電子元器件發(fā)展的需求。例如，在半導(dǎo)體集成電路制造過程中，以電阻率較低的銅導(dǎo)體薄膜代替鋁膜布線：在平面顯示器產(chǎn)業(yè)中，各種顯示技術(shù)(如LCD、PDP、OLED及FED等)的同步發(fā)展，有的已經(jīng)用于電腦及計算機(jī)的顯示器制造；在信息存儲產(chǎn)業(yè)中，磁性存儲器的存儲容量不斷增加，新的磁光記錄材料不斷推陳出新這些都對所需濺射靶材的質(zhì)量提出了越來越高的要求，玫瑰金靶材生產(chǎn)加工，需求數(shù)量也逐年增加。
在鉑族金屬的應(yīng)用中，玫瑰金靶材哪家好，光學(xué)玻璃行業(yè)是鉑的重要的應(yīng)用領(lǐng)域，鉑是制造熔制光學(xué)玻璃的坩堝和攪拌器的必選材料，由于光學(xué)玻璃的特殊性，提出了對坩堝和攪拌器的更苛刻的適用要求，早在八十年代初期，國內(nèi)就有人提出了用彌散強(qiáng)化鉑來制作坩堝和攪拌器。
21世紀(jì)展現(xiàn)良好發(fā)展前景的納米技術(shù)，貴金屬由于它們的優(yōu)異的物理化學(xué)性能，資源的稀缺性以及在已知的傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域的不斷擴(kuò)大應(yīng)用和在未知領(lǐng)域的不斷開拓探索，成為納米技術(shù)早和相當(dāng)重要的研究對象之一。
濺射靶材的要求較傳統(tǒng)材料行業(yè)高，一般要求如，撫順玫瑰金靶材，尺寸、平整度、純度、各項雜質(zhì)含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸與缺陷控制；較高要求或特殊要求包含：表面粗糙度、電阻值、晶粒尺寸均勻性、成份與組織均勻性、異物（氧化物）含量與尺寸、導(dǎo)磁率、超高密度與超細(xì)晶粒等等。磁控濺射鍍膜是一種新型的物相鍍膜方式，就是用電子系統(tǒng)把電子發(fā)射并聚焦在被鍍的材料上，使其被濺射出來的原子遵循動量轉(zhuǎn)換原理以較高的動能脫離材料飛向基片淀積成膜。這種被鍍的材料就叫濺射靶材。 濺射靶材有金屬，合金，陶瓷化合物等。
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第8年
