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東莞菱威納米科技有限公司
主營：Parylene派瑞林,真空鍍膜,表面處理
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采用壓力控制器方案，控制往真空腔體內(nèi)充入的惰性氣體的壓力以營造一個控制良好的鍍膜環(huán)境。與反應腔體直接連接的外置真空計測量持續(xù)的過程壓力，該壓力讀數(shù)通過模擬信號傳輸?shù)綁毫刂破鞑@示。
進入腔體內(nèi)的參與反應的氣體的流量由質量流量控制器控制。因為上述的壓力控制器可以測得腔體內(nèi)的壓力、并通過調(diào)節(jié)非反應類氣體的含量實時調(diào)節(jié)過程壓力，從而使腔體內(nèi)形成利于沉積的鍍膜環(huán)境。
1）沉積反應如在氣固界面上發(fā)生則沉積物將按照原有固態(tài)基底（又稱襯底）的形狀包覆一層薄膜。
2）涂層的化學成分可以隨氣相組成的改變而改變從而獲得梯度沉積物或得到混合鍍層。
3）采用某種基底材料，沉積物達到一定厚度以后又容易與基底分離，這樣就可以得到各種特定形狀的游離沉積物器具。
4）在CVD技術中也可以沉積生成晶體或細粉狀物質，或者使沉積反應發(fā)生在氣相中而不是在基底表面上，這樣得到的無機合成物質可以是很細的粉末，派瑞林鍍膜，甚至是納米尺度的微粒稱為納米超細粉末。
5）CVD工藝是在較低壓力和溫度下進行的，通過派瑞林鍍膜技術可增強材料斷裂強度和抗震性能是在較低壓力和溫度下進行的。
離子源類型雖多，目的卻無非在線清洗，改善被鍍表面能量分布和調(diào)制增加反應氣體能量。離子源可以大大改善膜與基體的結合強度，同時膜本身的硬度與耐磨耐蝕特性也會改善。若是鍍工具耐磨層，一般厚度較大而對膜厚均勻性要求不高，可采用離子電流較大能級也較高的離子源，如霍爾離子源或陽極層離子源。
陽極層離子源，音響板派瑞林鍍膜oem，與霍爾離子源原理近似。在一條環(huán)形（長方形或圓形）窄縫中施加強磁場，在陽極作用下使工作氣體離子化并在射向工件。陽極層離子源可以做得很大很長，音響板派瑞林鍍膜處理，特別適合鍍大工件，如建筑玻璃。陽極層離子源離子電流也較大。但其離子流較發(fā)散，防潮派瑞林鍍膜，且能級分布太寬。一般適用于大型工件，玻璃，磨損，裝飾工件。但應用于光學鍍膜并不太多。
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第6年
