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東莞菱威納米科技有限公司
主營：Parylene派瑞林,真空鍍膜,表面處理
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離子源類型雖多，目的卻無非在線清洗，改善被鍍表面能量分布和調(diào)制增加反應(yīng)氣體能量。離子源可以大大改善膜與基體的結(jié)合強(qiáng)度，同時膜本身的硬度與耐磨耐蝕特性也會改善。若是鍍工具耐磨層，一般厚度較大而對膜厚均勻性要求不高，可采用離子電流較大能級也較高的離子源，如霍爾離子源或陽極層離子源。
陽極層離子源，與霍爾離子源原理近似。在一條環(huán)形（長方形或圓形）窄縫中施加強(qiáng)磁場，在陽極作用下使工作氣體離子化并在射向工件。陽極層離子源可以做得很大很長，特別適合鍍大工件，如建筑玻璃。陽極層離子源離子電流也較大。但其離子流較發(fā)散，且能級分布太寬。一般適用于大型工件，真空鍍派瑞林，玻璃，磨損，裝飾工件。但應(yīng)用于光學(xué)鍍膜并不太多。
派瑞林F粉是一種性能優(yōu)異的涂層材料，由于其優(yōu)異的性能和的真空氣相沉積工藝使其廣泛應(yīng)用于許多領(lǐng)域。作為保形防護(hù)材料在許多方面也優(yōu)于其他常見涂層材料；派瑞林 F粉已在航天航空、電子、半導(dǎo)體等諸多高科技領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用，未來，隨著工藝、技術(shù)和產(chǎn)品質(zhì)量的不斷完善，派瑞林加工，派瑞林F粉在國內(nèi)的應(yīng)用規(guī)模將快速增長。
派瑞林F粉別名：Parylene F粉、八氟對二二聚體，派瑞林，該材料為含氟的高分子涂層材料。膜層具有高通透性、厚度均勻、耐酸堿、介電特性好、光電和器械等領(lǐng)域都有著廣泛的應(yīng)用。
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