勻膠機(jī)
調(diào)速范圍和時(shí)間:I檔:50~10000轉(zhuǎn)/分,時(shí)間0~999s
II檔:50~10000轉(zhuǎn)/分,時(shí)間0~999s適用:直徑5~100mm硅片及其他材料勻膠轉(zhuǎn)速穩(wěn)定性:±1%膠的均勻性:±2%電極功率:40W,單相110~240V真空泵抽氣速率:>60L/min
頂旭(蘇州)微控技術(shù)有限公司是一家專注于微流控領(lǐng)域的高科技企業(yè),我們致力于為客戶提供微流控芯片定制、表面修飾改性、微流控芯片加工設(shè)備、以及微流控儀器等全mian的微流控解決方案。
日常維護(hù)
1、定期清理平行曝光機(jī)的載臺(tái),防止它們因積塵或灰塵而影響加工。
2、保持曝光機(jī)的表面清潔,防止灰塵和雜質(zhì)進(jìn)入設(shè)備內(nèi)部。
微流控芯片加工設(shè)備: 提供豐富多樣的微流控芯片加工設(shè)備,涵蓋SU8模具加工、PDMS芯片加工和玻璃芯片加工??梢詭椭蛻粼谧约旱膶?shí)驗(yàn)室內(nèi)進(jìn)行微流控芯片的快速制作,從而提高實(shí)驗(yàn)效率和靈活性。
耗材
硅片
硅片沒有特殊要求,顯影機(jī),單面拋光即可。制備SU8模具時(shí)在硅片拋光旋涂光刻膠。
光刻掩膜板
光刻掩膜版(又稱光罩,英文為Mask Reticle),簡(jiǎn)稱掩膜版,是制備SU8模具光刻工藝所使用的圖形母版,由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成微結(jié)構(gòu)掩膜圖形,通過曝光過程將微結(jié)構(gòu)圖形信息轉(zhuǎn)移到SU8光刻膠涂層上,實(shí)現(xiàn)微結(jié)構(gòu)的jing確復(fù)zhi。光刻掩膜版,一般可分為菲林掩膜版和玻璃掩膜版兩種。
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