根據(jù)清洗介質(zhì)的不同,目前半導(dǎo)體清洗技術(shù)主要分為濕法清洗和干法清洗兩種工藝路線。濕法清洗是針對不同的工藝需求,采用特定的化學(xué)藥液和去離子水,對晶圓表面進(jìn)行無損傷清洗,以去除晶圓制造過程中的顆粒、自然氧化層、有機(jī)物、金屬污染、犧牲層、拋光殘留物等物質(zhì),可同時采用超聲波、加熱、真空等輔助技術(shù)手段;干法清洗是指不使用化學(xué)溶劑的清洗技術(shù),半導(dǎo)體氧化設(shè)備公司,主要包括等離子清洗、超臨界氣相清洗、束流清洗等技術(shù)。
半導(dǎo)體設(shè)備泛指用于生產(chǎn)各類半導(dǎo)體產(chǎn)品所需的生產(chǎn)設(shè)備,屬于半導(dǎo)體行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈的關(guān)鍵支撐環(huán)節(jié)。半導(dǎo)體設(shè)備是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的技術(shù)先導(dǎo)者,芯片設(shè)計、晶圓制造和封裝測試等需在設(shè)備技術(shù)允許的范圍內(nèi)設(shè)計和制造,合肥半導(dǎo)體氧化設(shè)備,設(shè)備的技術(shù)進(jìn)步又反過來推動半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。半導(dǎo)體氧化設(shè)備以及一種制造半導(dǎo)體元件的方法,半導(dǎo)體氧化設(shè)備供應(yīng)商,其能夠沿平面方向保持包含在半導(dǎo)體樣品內(nèi)的選擇氧化層的氧化量的均勻性, 并適當(dāng)?shù)乜刂蒲趸俊?p>
一種半導(dǎo)體氧化設(shè)備,其配有:由室壁界定的可密封氧化室;設(shè)置于氧化室內(nèi),并用來支撐半導(dǎo)體樣品的基座;用于向所述氧化室供應(yīng)對所述
半導(dǎo)體樣品的特定部分進(jìn)行氧化的水蒸汽的供應(yīng)部分;監(jiān)測窗,半導(dǎo)體氧化設(shè)備報價,其設(shè)置于所述氧化室的室壁之一內(nèi),并且設(shè)置于能夠面對支撐于所述基座上的所述半導(dǎo)體樣品的位置處;監(jiān)測部分,其設(shè)置于所述氧化室之外,并且能夠經(jīng)由所述監(jiān)測窗面對支撐于所述基座上的半導(dǎo)體樣品;以及調(diào)整所述基座和所述監(jiān)測部分之間的距離的調(diào)整部分。
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