氧化膜的生長(zhǎng)過(guò)程就是氧化膜不斷生成和不斷溶解的過(guò)程。
第三段c(曲線cd段):多孔層增厚。陽(yáng)極氧化約20s后,電壓進(jìn)入比較平穩(wěn)而緩慢的上升階段。表明無(wú)孔層在不斷地被溶解形成多孔層的同時(shí),新的無(wú)孔層又在生長(zhǎng),也就是說(shuō)氧化膜中無(wú)孔層的生成速度與溶解速度基本上達(dá)到了平衡,故無(wú)孔層的厚度不再增加,電壓變化也很小。但是,此時(shí)在孔的底部氧化膜的生成與溶解并沒(méi)有停止,他們?nèi)栽诓粩噙M(jìn)行著,結(jié)果使孔的底部逐漸向金屬基體內(nèi)部移動(dòng)。隨著氧化時(shí)間的延續(xù),孔穴加深形成孔隙,具有孔隙的膜層逐漸加厚。當(dāng)膜生成速度和溶解速度達(dá)到動(dòng)態(tài)平衡時(shí),即使再延長(zhǎng)氧化時(shí)間,氧化膜的厚度也不會(huì)再增加,此時(shí)應(yīng)停止陽(yáng)極氧化過(guò)程。陽(yáng)極氧化特性曲線與氧化膜生長(zhǎng)過(guò)程。
影響陽(yáng)極氧化氧化膜質(zhì)量的因素主要有:
氧化時(shí)間:氧化時(shí)間的選擇,取決于電解液濃度,溫度,陽(yáng)極電流密度和所需要的膜厚。相同條件下,當(dāng)電流密度恒定時(shí),膜的生長(zhǎng)速度與氧化時(shí)間成正比;但當(dāng)膜生長(zhǎng)到一定厚度時(shí),由于膜電阻升高,鋁氧化加工廠,影響導(dǎo)電能力,而且由于溫升,膜的溶解速度增大,所以膜的生長(zhǎng)速度會(huì)逐漸降低,到后面不再增加。
陽(yáng)極氧化工藝:
影響氧化膜質(zhì)量的因素主要有:①硫酸濃度:通常采用15%~20%。濃度升高,鋁氧化生產(chǎn)廠家,膜的溶解速度加大,膜的生長(zhǎng)速度降低,膜的孔隙率高,江蘇鋁氧化,吸附力強(qiáng),富有彈性,染色性好(易于染深色),但硬度,耐磨性略差;而降低硫酸濃度,則氧化膜生長(zhǎng)速度加快,膜的孔隙少,硬度高,耐磨性好。所以,用于防護(hù),裝飾及純裝飾加工時(shí),多使用允許濃度的上限,即20%濃度的硫酸做電解液。
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